El tubo de la vacuometalización 133OD*125ID*2940L apunta el ODM del OEM

133OD*125ID*2940L incluyen el titanio Gr2 ASTM B861-06 de la blanco del tubo del titanio del reborde la vacuometalización del material de blanco

La tendencia de desarrollo de la tecnología de la blanco del tubo está estrechamente vinculada a la tendencia de desarrollo de la tecnología de la película fina en industrias rio abajo. La tecnología de la vacuometalización se divide generalmente en dos categorías: tecnología física de la deposición de vapor (PVD) y tecnología de la deposición de vapor químico (CVD).
La tecnología física de la deposición de vapor refiere al uso de una variedad de métodos físicos bajo condiciones del vacío, los materiales que platean vaporizados en los átomos, moléculas o separados en los iones, depositados directamente en la superficie del método de matriz. La preparación de películas reactivas duras es hecha sobre todo por método físico de la deposición de vapor. Utiliza algunos procesos físicos, tales como evaporación termal de sustancias o farfulla de átomos en la superficie de sustancias cuando es bombardeada por los iones, para realizar el proceso controlable de la transferencia de átomos del material de origen a la película. La tecnología física de la deposición de vapor tiene las ventajas de la buena fuerza de enlace de la película/de la base, uniforme y la película compacta, espesor del film controlable, materiales de blanco anchos, gama ancha de la farfulla, película gruesa puede ser depositada, la película estable de la aleación se puede preparar y buena repetibilidad. Al mismo tiempo, la tecnología física de la deposición de vapor se puede utilizar como la tecnología de proceso final para el HSS y cementó las herramientas de la fino-película del carburo porque la temperatura de proceso se puede controlar debajo de 500℃. Porque el funcionamiento del corte de las herramientas de corte se puede mejorar grandemente usando proceso físico de la deposición de vapor, mientras que desarrolla alto rendimiento y el alto equipo de la confiabilidad, su campo del uso se amplía, especialmente en acero de alta velocidad, la aleación dura y las herramientas de cerámica para más investigación profundizada.
La tecnología de la deposición de vapor químico es el gas elemental que contiene una base de fuente del elemento o del compuesto de la membrana, con la ayuda de la fase de gas o substrato en la superficie de una reacción química, en el método de matriz de metal de la fabricación o película del compuesto, principalmente incluyendo la deposición de vapor químico de la presión atmosférica, deposición de vapor químico de la presión baja y tiene ambas características deposición de vapor de sustancia química del plasma del CVD y de PVD, etc.

Ventajas principales
Alta fuerza de la especificación de la baja densidad
Arreglo para requisitos particulares de encargo de la petición
Resistencia a la corrosión excelente
Buena resistencia térmica
Funcionamiento excelente de la baja temperatura
Buenas propiedades termales
Módulo de elástico bajo